早稲田大学の宮本佳明助手と松野敬成講師、下嶋敦教授らは、自己修復機能をもつ硬いシリコーン薄膜を開発した。硬度はポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の３０倍に向上した。８０度Ｃで修復機能を確認。揮発成分が生じないため周辺を汚染しない。電子部品などの保護コーティングに提案していく。
薄膜中に有機シロキサンとＰＤＭＳの多層構造を作る。まず炭素が主体のＰＥＯとケイ素が主体のＰＤＭＳがつながった高分子を作り、有機シロキサンと混ぜて層状構造を作る。この薄膜を大気下・１７０度Ｃで焼成するとＰＥＯが失われてＰＤＭＳが残る。すると有機シロキサンとＰＤＭＳが積層された薄膜が形成される。
この多層薄膜に反応性の高いシラノレート基を導入する。するとシロキサンが切断されても結合が組み換えられてつながる。実験では８０度Ｃ湿度４０％の条件で傷が修復された。ＰＤＭＳにシラノレート基を導入すると、小さな環状シロキサンが発生し揮発する問題があった。新材料は長く安定し、保護膜に利用できる。現在は修復に水蒸気や加熱が必要。より温和な条件で修復する材料を開発する。